低温等离子体主要特点：任何湿洗法清洗，表面都会有残留，只有低温等离子体表面处理才能做到彻底的净化，得到超高洁净度的表面，且低温等离子体只对材料纳米级的表面起作用，不会改变材料原有的特性，在对表面洁净度要求较高的工艺中，正在取代湿法处理工艺而得到广泛使用。
处理机理：主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。气体被激发为等离子态；重粒子撞击固体表面；电子与活性基团与固体表面发生反应解析为新的气相物质而脱离表面。
等离子体清洗技术的*大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
2、等离子体处理的活化作用：
经低温等离子体处理后使物体表面形成C=O羰基（Carbonyl）、-COOH羧基（Carboxyl） 、−OH羟基（Hydroxyl）三种基团。这些基团具有稳定的亲水功能，对粘接、涂覆有积极作用。
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