清理工艺又称为生产条件和污染操控工艺，是近二、三十年来随着高新工艺发展起来的一门综合性的新兴科学工艺。清理工艺专门研究并提供清理的生产工艺条件和生产过
程中使用的各种高纯介质，有效地操控微量杂质，以保证高科技产品的成品率和可靠性。清理工艺通常包括：空气净化工艺、空调工艺、水纯化工艺、气体纯化工艺、微量
杂质操控工艺、清理条件的监测工艺及相关的条件质量的操控工艺。净化工程工艺在电子、核子、航空航天、生物工程、制药、精密机械、化工、食品、汽车制造等高科技
工业领域及现代科学领域中得到广泛应用。
对于半导体设备来讲，净化工程工艺在微电子工艺中起着十分重要的作用。微电子工艺的核心是集成电路，而集成电路的生产对其工艺条件和工艺流程中的净化工艺和
设备提出了严格的要求。我国“九五”期间大力发展以微电子为重点的信息产业。净化工程工艺水平在某种意义上已成为衡量一个国家和地区科学工艺水平和工业水平的一
个重要标志。